2025年9月，備受矚目的SEMI-e深圳國際半導體展暨集成電路產業創新展在深圳國際會展中心圓滿落幕。作為半導體產業鏈的年度盛會，本屆展會匯聚了從設計、制造到設備材料的全鏈條創新力量，展現了中國半導體產業在自主可控道路上的堅實步伐。

實力彰顯：不止于參展，更是行業標準的推動者

萊特萊德此次以 “贊助商"與“參展商" 的雙重身份深度參與SEMI-e，不僅是企業雄厚綜合實力的體現，更彰顯了其致力于推動中國半導體產業關鍵配套環節技術進步的責任與擔當。萊特萊德深耕高純水處理領域十余年，已發展成為一家集技術研發、設備制造、工程集成與售后服務于一體的技術企業。其解決方案已廣泛應用于芯片制造、晶圓加工、封裝測試等眾多關鍵環節，與國內外多家頭部半導體企業建立了長期穩定的合作關系，是值得產業鏈信賴的可靠伙伴。

攻克芯片制造“水"的難題

半導體制造是對水質要求嚴苛的工業領域之一，任何微小的雜質都可能導致巨大的產品缺陷。萊特萊德憑借其*的研發實力和創新精神，精準攻克了一系列技術壁壘：

超高純水(UPW)制備技術：萊特萊德系統整合了多項工藝，如雙膜法(UF+RO)預處理、電去離子(EDI)技術、以及硼/硅等痕量雜質深度去除工藝。其系統產水水質穩定可靠，滿足E-1級(18.2MΩ·cm) 甚至更苛刻的電子級超純水標準，為光刻、蝕刻、CMP等核心制程提供可靠保障，直接賦能芯片良率的提升。

工業廢水回收技術：針對半導體生產過程中產生的大量高難度廢水(如CMP研磨廢水、刻蝕廢水、高有機廢水等)，萊特萊德提供高效的分質回用與資源化解決方案。通過特種膜分離、高效MVR蒸發結晶、高級氧化等核心技術，實現水資源的高比例回收(≥90%)，大幅降低新水取用量和排污費用。

廢液資源化技術：萊特萊德創新性地將膜技術與工藝相結合，能夠從特定的蝕刻廢液、清洗廢液中有效回收有價值的化學品(如酸、堿)，變廢為寶，在降低客戶原材料成本的同時，也減輕了環境負擔，創造了顯著的經濟與環境效益。

展會期間，萊特萊德16號館110號展位人氣持續火爆，吸引了眾多晶圓制造、封裝測試企業的技術團隊駐足交流。據現場負責人介紹，展會三天累計接待專業觀眾逾千人次，與十余家企業達成初步合作意向，涉及超純水系統升級、廢水改造等多個領域。特別在第三代半導體展區，萊特萊德針對碳化硅/ 氮化鎵器件生產特點定制的腐蝕液處理方案，因能滿足高溫高壓環境下的水質要求，獲得多家器件廠商的高度認可。

在本次SEMI-E展會現場，萊特萊德不僅將呈現上述核心技術模型與成功案例，更安排了技術專家團隊現場答疑，提供面對面的技術交流和個性化解決方案咨詢。

在"超純水技術在制程中的應用"主題討論中，萊特萊德技術專家分享了與國內晶圓廠合作的實戰經驗，深入解析公司核心技術在該應用中的創新之處。專家與來訪嘉賓就"如何平衡水質純度與運營成本"、"系統穩定性控制"等行業熱點、難題展開熱烈探討，為產業協同創新提供了新思路。